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光譜橢偏儀在薄膜質(zhì)量控制中的創(chuàng)新應(yīng)用
光譜橢偏儀在薄膜質(zhì)量控制中的創(chuàng)新應(yīng)用

光譜橢偏儀(SE)是一種高精度的光學(xué)測量儀器,廣泛應(yīng)用于薄膜材料的表征與質(zhì)量控制。通過測量反射光的偏振變化,光譜橢偏儀能夠提供薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等重要參數(shù),進(jìn)而評估薄膜的光學(xué)性質(zhì)、表面質(zhì)量以及結(jié)構(gòu)特征。近年來,隨著薄膜技術(shù)的進(jìn)步,橢偏儀在薄膜質(zhì)量控制中的應(yīng)用取得了顯著的...

2024 11-22
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